ICP光譜儀主要用于微量元素的分析，可分析的元素幾乎都是金屬以及硅、磷、硫等少量非金屬，廣泛用于質(zhì)量控制的元素分析。不僅可以檢測(cè)超微量元素，還可以檢測(cè)常量元素，已成為分析儀器領(lǐng)域越來(lái)越強(qiáng)大的研究工具。
ICP譜儀測(cè)量的難點(diǎn)一般是光譜干擾和基體效應(yīng)，基體效應(yīng)主要指共存成分對(duì)分析元素信號(hào)的影響，只出現(xiàn)在矩陣和待測(cè)成分共存的情況下，不具有相加性。基體效應(yīng)的存在會(huì)惡化分析結(jié)果的精度。
基體效應(yīng)有光譜和非光譜的基體效應(yīng)。光譜的基體效應(yīng)是指ICP放電中的連續(xù)背景發(fā)光。這根據(jù)等離子體的操作條件不同，會(huì)隨著導(dǎo)入樣品溶液的成分、酸度、粘度和表面張力的變化而發(fā)生變化。光譜背景與試樣注入量之比隨試樣注入量的降低而有一定程度的增加。由于連續(xù)的背景發(fā)光有可能在分析線強(qiáng)度測(cè)量值上產(chǎn)生正的偏差，所以有必要校正連續(xù)的背景發(fā)光。非光譜的基體效應(yīng)也與分析物、干擾物的性質(zhì)、操作參數(shù)、儀器類(lèi)型以及進(jìn)樣方式等多種因素有關(guān)。
基體效果的特征如下
1、基體效應(yīng)受等離子體參數(shù)的影響；
2、基體效應(yīng)與被測(cè)元素的性質(zhì)和分析線的性質(zhì)有關(guān)；
3、基質(zhì)還與干擾元素(基質(zhì))的種類(lèi)和基質(zhì)的含量有關(guān)，當(dāng)基質(zhì)下降到一定的濃度時(shí)，基質(zhì)的影響可以忽略；
4、基體效應(yīng)規(guī)律比較復(fù)雜，不同元素、不同元素的組合、溶液體系基體效應(yīng)不同；
5、基體效應(yīng)的存在會(huì)導(dǎo)致分析線強(qiáng)度的增加或降低，增加了光譜強(qiáng)度的基質(zhì)干擾稱(chēng)為曾敏效應(yīng)，降低的稱(chēng)為抑制效應(yīng)。
有幾種抑制或降低基體效果影響的方法，各種基體效果也有相應(yīng)的處理方法，基體干擾的消除：
1、標(biāo)準(zhǔn)加入法
組成復(fù)雜的樣品共存元素濃度的變化常引起背景水平的變化，共存成分的線譜和帶譜以及各種形式的雜散光會(huì)使背景信號(hào)發(fā)生移動(dòng)。標(biāo)準(zhǔn)添加法是不需要事先知道樣品基板的光譜，就可以校正這些干擾和基板效果的方法，傳統(tǒng)的外推值標(biāo)準(zhǔn)添加法的缺點(diǎn)是ICP的背景等效濃度BEC高，不穩(wěn)定。
2、預(yù)分離和預(yù)濃縮
分離基體，事先濃縮測(cè)定元素不僅可以提高分析靈敏度，改善檢出限，更重要的是有助于消除和降低基體對(duì)分析元素的光譜干擾和非光譜干擾。
3、矩陣匹配法
矩陣匹配法是指使用用于繪制標(biāo)準(zhǔn)曲線的標(biāo)準(zhǔn)溶液對(duì)分析樣品溶液的主成分濃度和酸濃度進(jìn)行匹配的方法。由于主成分相似，對(duì)分析元素的非光譜干擾相似，可以用匹配的方法減去基質(zhì)或主成分的非光譜干擾，一般應(yīng)用于ICP-AES分析。
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